有關單晶硅爐用超純水設備的工藝流程,我們準備了三種
瀏覽次數:770次發表時間:2021-09-22
單晶硅也叫單晶,是電子材料中基礎的材料,屬于半導體材料,單晶硅主要用于半導體集成電路、二極管、太陽能電池等領域。單晶硅爐用超純水設備采用先進的反滲透技術和EDI技術相結合的制水工藝,具有制水效果優良,操作簡單等優點。
三種工藝流程:
1、采用離子交換方式,其流程如下:
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點;
2、采用兩級反滲透方式,其流程如下:
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→第一級反滲透 →PH調節→中間水箱→第二級反滲透→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點;
3、采用EDI方式,其流程如下:
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點;
隨著膜分離技術的不斷成熟,現在單晶硅爐用超純水設備常常采用反滲透過濾工藝,或者是采用一級反滲透后面再經過離子交換混床工藝來制取超純水。
單晶硅爐用超純水設備的使用特點:
1、整體化程度高,易于擴展,增加膜數量即可增加處理量;
2、自動化程度高,遇故障立即自停,具有自動保護功能;
3、膜組件為復合膜卷制而成,表現出更高的溶質分離率和透過速率;
4、能耗低,水利用率高,運行成本低;
5、結構合理,占地面積少;
6、先進的膜保護系統,在設備關機,淡化水可自動將膜面污染物沖洗干凈,延長膜壽命;
7、系統無易損部件,無須大量維修,運行長期有效;
8、設備設計有膜清洗系統用阻垢系統。